年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮 (نايتروجن TriFuoride）,化学式NF3,是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体,具有学式NF3,具有⼴柛式.
在微电⼦⼯业中,三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体,在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域,三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体協品清洗剂。 它还可以⽤于⾼能化学激光器,通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来垶应⽤.三氟化氮还可⽤作⾼能燃料,并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剂使.

د نایتروجن ټرای فلورایډ، کیمیاوي فورمول NF3، یو پیاوړی اکسیډیز کولو اجنټ دی. د یو مهم صنعتي ځانګړي ګاز په توګه، دا د غوښتنلیکونو پراخه لړۍ لري.
د مایکرو الیکترونیک صنعت کې، نایتروجن ټرای فلورایډ یو غوره پلازما اینچنګ ګاز دی؛ د سیمیکمډکټر چپ، فلیټ پینل ډسپلین، آپټیکل فایبر، فوتوولټیک حجرو او نورو تولیدي ساحو کې، د نایتروجن ټرای فلورایډ په عمده توګه د پلازما اینچنګ ګاز او د عکس العمل غار پاکولو اجنټ په توګه کارول کیږي.
دا د لوړې انرژي کیمیاوي لیزرونو کې هم کارول کیدی شي ترڅو د هایدروجن سره عکس العمل ترلاسه کولو لپاره خپل غوښتنلیک ترلاسه کړي ترڅو په سمدستي کې د تودوخې لوی مقدار خارج کړي. د نایتروجن ټرای فلورایډ د لوړې انرژۍ د سونګ په توګه او د راکټ لانچونو کې د اکسیډیزر او پروپیلنټ په توګه هم کارول کیږي.